10月17日，近日光刻机大厂佳能（Canon）该公司最近通过新闻稿宣布，它已经开始销售基于“纳米印刷”的产品（Nanoprinted lithography）半导体芯片生产设备技术 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可制造5nm半导体芯片。

近日，光刻机大厂佳能（Canon）该公司最近通过新闻稿宣布，它已经开始销售基于“纳米印刷”的产品（Nanoprinted lithography）芯片生产设备的技术 FPA-1200NZ2C，这套生产设备的工作原理和行业巨头 ASML 不同的光刻机，使用类似的印刷技术， 芯片采购平台可以通过压印直接形成图案。该设备可用于最小14平方毫米的硅晶圆，可生产相当于EUV设备生产的5nm工艺芯片。 

近年来，佳能一直在积极增加光刻设备的生产，以满足不断增长的需求。佳能的光刻设备主要用于制造汽车控制等半导体产品。为了应对需求的持续增长，佳能还计划在日本东木县玉都宫建设一家新的半导体设备工厂，主要增加光刻设备的生产，预计竣工后产能将增加两倍。

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